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韩国LetinAR将展示新一代小孔成像AR光学系统

2023-07-06 10:32:22
云空间

  为增强现实智能眼镜开发光学解决方案的letinar宣布将参展于当地时间1月7日-10日举行的ces 2020大会,并展示他们的“pinmr 2020”透镜。

  作为ar智能眼镜光学系统的开发商,letinar曾于2018年和2019年的ces和mwc大会亮相了他们的“ pinmr(pin morrio)”技术。据介绍,即将在ces 2020发布的“pinmr 2020”透镜解决了关键的技术障碍,并将光学系统提升到了一个全新的高度。

  “pinmr 2020”最大的亮点是,它克服了一直困扰ar光学系统的垂直视角问题。以前只能限制为23度的垂直视角已经能够扩大到接近40度。最重要的是,视窗已经得到了进一步的改善,可允许产品能够如同普通眼镜一样容易佩戴。

  在ces 2020大会中,访客将可以体验针对pinmr 2020透镜进行了优化的超高清沉浸式ar演示内容。这家公司计划展示交互式内容,从而向大家展示有着优化视角和视窗的第一手体验。用户届时可以通过眼戴形式的设备进行感受。通过将ai面部识别功能与pinmr透镜技术相结合,这家公司希望向社区呈现ar未来应用的愿景。

  letinar的首席执行官김재혁(音译金在赫)表示:“letinar强大的技术基础使得我们不仅能够克服现有ar光学系统的局限性,而且克服了被视为重大挑战的垂直视角问题。我们计划在ces 2020大会展示各种形式的增强现实用例,以展示ar可以给我们生活带来的变化。”

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